YOSHIDA Norimitsu | |
職名 | 准教授 |
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学科 | 電気電子・情報工学科 |
コース | 電気電子コース |
高効率なシリコン系薄膜太陽電池を開発 & 実現するための、以下に記す基礎的研究を行っています。
1. 光熱輻射分光法を用いたシリコン系薄膜における欠陥評価手法の開発・・・光吸収係数を光熱輻射分光法により測定することにより、任意の面積を有するシリコン系薄膜の欠陥密度を非破壊かつ非接触に評価する手法の開発に関する研究。
2. 表面光起電力法によるシリコン系薄膜のキャリヤー拡散長評価・・・へテロ接合型シリコン系薄膜太陽電池の開発を目指し、極薄の水素化アモルファスシリコン薄膜を被覆した水素化微結晶シリコン薄膜における少数キャリヤーの拡散長を評価する研究。
3. へテロ接合型シリコン系薄膜太陽電池の開発・・・発電層に水素化微結晶シリコン薄膜を用いたヘテロ接合型太陽電池の開発に関する研究。
現在はシリコン系薄膜(アモルファスシリコンおよび微結晶シリコン)が研究対象ですが、今後は他の太陽電池材料への拡張および新規太陽電池材料の探索を予定しています。
電気・電子材料(半導体)、評価技術、シリコン系薄膜太陽電池