西田 哲（ニシダ サトシ）
NISHIDA Satoshi
 |
|
| 職名 | 准教授 |
|---|---|
| 学科 | 機械工学科 |
| コース | 機械コース |
研究概要
主に半導体材料としてよく使われるシリコン(ケイ素)の研究を行っています。主にガラスやシリコン基板上へのシリコン薄膜の製膜、分析を行っています。
最近の主な研究テーマとしては以下のものがあります。
- プラズマジェットCVDによる高速製膜の機構解明と高品質化、均一化の実現
高速のジェット(噴流)を使用したプラズマCVDで通常法の問題点である製膜速度を向上させる手法の開発、改良を行っています。 - シリコンヘテロ接合の局所的な電気特性の解明
一般的に売られている太陽電池で光のエネルギーを電気に変える効率(変換効率)の高いものにヘテロ接合型の太陽電池があります。この太陽電池では結晶シリコンの上にアモルファス(非晶質)のシリコンを堆積しています。
 |
 |
| 図1 プラズマジェットCVD中の製膜の様子 | 図2 CFDによるガス流れの計算結果 |
研究キーワード
CVD、シリコン薄膜、太陽電池
詳細ページ
